A legfejlettebb nyugati gyártási technológiát nem használhatják az amerikai embargó miatt, ezért kifejlesztették maguk.
Kína hazai fejlesztésű extrém ultraibolya (EUV) litográfiai rendszerre tehet szert 2025 őszére egy X bejegyzés tanulsága szerint. A legfejlettebb félvezetők gyártásánál alkalmazott EUV litográfiai berendezéseket jelenleg csak a holland ASML gyárt, de ilyeneket az amerikai szankciók miatt kínai cégek nem használhatnak.
A Huawei dongguani üzeméből kiszivárgott fotókon egy a leírás szerint egy LDP lézer berendezés látható. Ez a lézer állítja elő az extrém ultraibolya fényt az elektródák közé helyezett ón plazmává alakításával. A 13,5 nanométeres hullámhosszú fény azért fontos, mert ezzel lehet nanométeres méretű áramköröket nyomtatni.
Az ASML berendezései egy másik megoldást, úgynevezett LPP lézert használnak, amelyet évtizedeken át finomítottak. Az LDP lézernek több olyan előnye van, ami segíthet Kínának behozni az embargó miatti technikai lemaradást. A kínai SMIC chipgyártóval együttműködő Huawei még 2025 harmadik negyedévére tervezi a próbaüzemet és jövőre kezdenék el a termelést.
Egy megbízható, gazdaságilag fenntartható félvezetőgyártási folyamat megszervezése akár évekig is eltarthat. Ha ez sikerül, megismétlődhet a DeepSeek pillanat: mint ismert a DeepSeek egy kínai mesterséges intelligencia fejlesztő cég, amely töredék költségen képes volt a legújabb amerikai fejlesztésekkel vetekedő érvelő nyelvi modellt bemutatni és egy csapásra ledolgozni a kínai lemaradást a területen.